News 2026
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2026. 03. 17.
2026. 03. 17.
[HOT NEWS]
김형준 박사과정이 제1저자로 참여한 논문이 국제학술지 Materials Horizons의 Inside Front Cover에 선정되었습니다.
본 소식은 중앙일보 등 10개 언론매체에 보도되었습니다.
<보도기사 목록>
[중앙일보] 숭실대 이웅규 교수 연구팀, 국제학술지 ‘Materials Horizons’ Inside Front Cover 선정
[조선일보] 숭실대 이웅규 교수 연구팀, 국제학술지‘Materials Horizons’ Inside Front Cover 선정
[한겨레] 숭실대 이웅규 교수 연구팀, 국제학술지 ‘Materials Horizons’ Inside Front Cover 선정
[E동아] 숭실대 “이웅규 교수팀, 국제학술지 ‘Materials Horizons’ Inside Front Cover 선정”
[대학신문] 숭실대 이웅규 교수팀, 차세대 DRAM 공정 기술 개발…국제학술지 표지논문 선정
[메트로신문] 숭실대 이웅규 교수팀, 차세대 DRAM 성능 높일 박막 공정 기술 개발
[대학저널] 숭실대 이웅규 교수 연구팀, 국제학술지 ‘Materials Horizons’ Inside Front Cover 선정
[뉴스1] 숭실대 연구팀, 차세대 DRAM 메모리 성능 향상 '박막 공정 기술' 개발
[스마트경제] 이웅규 숭실대 신소재공학과 교수 연구팀, 국제학술지 ‘Materials Horizons’ Inside Front Cover 선정
[뉴시스] 숭실대 연구진, 차세대 메모리 소자 한계 넘는 '계면 제어 신기술' 개발
2026. 03. 12.
2026. 03. 12.
~ 2026. 03. 13.
과학기술컨벤션센터(한국과학기술회관)에서 진행된 제 6회 Atomic Craft Workshop에 교수님과 김형준 박사과정, 김주형,조석호,
조승민, 권순빈, 안지원 석사과정, 김현서, 이혜승, 정채연, 조서현 학부연구생이 참가하였습니다.
2026. 02. 28.
2026. 02. 28.
오늘은 이웅규 교수님 생신입니다.
생신 축하드립니다!
2026. 02. 23.
2026. 02. 23.
김형준 박사과정이 제1저자로 참여한 논문이 Materials Horizons 지 front cover로 선정되었습니다. 축하합니다 !!
"Suppression of Low-k Interfacial Layers in ZrO₂/TiN Capacitors by Atomic Layer Deposition Using Ligand-Modified Zr Precursor" - Materials Horizons
2026. 02. 20.
2026. 02. 20.
석사생 유경훈, 정상연, 홍주안이 석사과정을 졸업했습니다.
학부연구생 권순빈이 학사과정을 졸업했습니다.
졸업을 축하드리며, 새로운 시작을 응원합니다!
2026. 02. 12.
2026. 02. 12.
홍주안 석사과정이 제1저자로 참여한 논문이 accept되었습니다. 축하합니다!!
"Crystallinity and Stoichiometry Engineering in TiO₂ Thin Films via O3 Post-Treatment for Enhanced Dielectric Properties" - Ceramics International.
2026. 01. 27.
2026. 01. 27.
~ 2026. 01. 30.
강원도 하이원리조트에서 진행된 2026년 반도체학술대회에 김형준 박사과정, 유경훈, 정상연, 홍주안, 김주형, 조석호, 조승민 석사과정과 권순빈, 안지원 학부연구생이 참가하였습니다.
"Suppression of Interfacial Layers in ZrO2/TiN Capacitors by Atomic Layer Deposition Using Ligand-Engineered Zr precursors"
/ oral- 김형준 박사과정
"Material-Driven Formation of Two-Dimensional Electron Gas at In2O3/Al2O3 Interfaces with Atomic Layer Deposition" / oral - 유경훈 석사과정
"Oxygen Vacancy Suppression in ALD TiO2 Thin Films Using a Modified Ti-Precursor" / oral - 홍주안 석사과정
"Formation and Electrical Properties of High-k SrTiO3 Thin Films via ALD Using Sr(dmts)(hfac)2 and (CpMe5)Ti(OMe)3 Precursors" / poster - 정상연 석사과정
"Atomic Layer Etching of ZrO2 Using SF6 Plasma and TiCl4 for DRAM Capacitors" / poster - 김주형 석사과정
"Improved Switching Uniformity of HfO2-Based RRAM through Controlled TiN Deposition and Interfacial TiOxNy Engineering"
/ poster - 조석호 석사과정
"Atomic Layer Deposition of Molybdenum Oxide Thin Films and Electrical Properties under Various Annealing Conditions"
/ poster - 조승민 석사과정
"Reliability Enhancement of HfO2-Based Memristor via TiO2 Interlayer" / poster - 권순빈 학부연구생
"Enhancement of Electrical Properties of Molybdenum Oxide Thin Films via Post-Deposition Annealing and Plasma Treatment"
/ poster - 안지원 학부연구생
2026. 01. 18.
2026. 01. 18.
이재준, 정상연 석사과정이 공동 제1저자로 참여한 논문이 accept되었습니다. 축하합니다!!
"Indirect Synthesis of Carbon-Free Perovskite SrTiO3 Thin Films via SrF2 and TiO2 ALD for DRAM Capacitors" - Applied Surface Science.
2026. 01. 08.
2026. 01. 08.
이예지 석사과정이 제1저자로 참여한 논문이 accept되었습니다. 축하합니다!!
"Synthesis of heteroleptic [Sr(ddemap)(tmhd)]2 and its use in atomic layer deposition of low carbon SrO thin films" - RSC Advances.
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